Polykristallines Silizium als funktionale Schicht in der Mikrosystemtechnik
| Akronym: | PoSiMi | |
| Projektlaufzeit: | 01.05.2020 - 31.10.2022 | |
| Beschreibung: | Im Projekt "Polykristallines Silizium als funktionale Schicht in der Mikrosystemtechnik" wird untersucht wie sich die Herstellung von polykristallinen Schichten auf die Materialparameter auswirkt. Da die Herstellung der polykristallinen Schichten von den verwendeten Anlagen abhängt und man damit die Eigenschaften der Schichten ändern kann, sind diese Untersuchungen wichtig um herauszufinden wie man zukünftig solche Schichten in der Mikrosystemtechnik einsetzen kann. | |
| Gefördert durch: | BMWI |  |
| Projektträger: | Euronorm | |
| Förderkennzeichen: | 49MF200014 | |
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