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Schlagwortarchiv für: PuSch

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Beiträge

Projektstart PuSch – Photostrukturierbarer Schwarzlack gegen Streulicht

9. Januar 2025/in MOEMS

Das Ziel des kürzlich gestarteten Forschungsprojekts PuSch ist die Nutzung strukturierbarer, optisch intransparenter Beschichtungen zur Abdeckung reflektiver Bereiche auf der Chipoberfläche von Photodioden und Arrays. Dadurch wird beim Einsatz im Messgerät Streulicht unterdrückt und der nützliche Anteil des Detektorsignals erhöht. Bei der Technologieentwicklung muss dabei auf die Kompatibilität zu Folgeprozessen und den Betriebsbedingungen besonderes Augenmerk gelegt werden

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https://www.cismst.de/wp-content/uploads/news-2025-01-09-home.jpg 90 120 CiS https://www.cismst.de/wp-content/uploads/logo-trans.png CiS2025-01-09 11:00:012025-01-09 11:00:22Projektstart PuSch – Photostrukturierbarer Schwarzlack gegen Streulicht
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