Siliziumbasierte Sensoren, die mittels MEMS-Technologien hergestellt wurden, sind hervorragend geeignet, physikalische Größen wie Kraft, Volumen- und Formänderung, Lage, Neigung, Druck, Torsion, Durchfluss, Beschleunigung u.a.m. zu messen. Ihre Vorteile liegen in ihrer hohen Empfindlichkeit bei geringer Bauteilgröße, dem damit einhergehenden hohen Signal-Rausch-Verhältnis, einer hohen elektronischen Stabilität sowie eine sehr lineare Kennlinie aus. Kommerzielle Produkte sind daher vielfältig am Markt etabliert. Die Nutzung der Resonanzfrequenz als Messgröße hat den Vorteil, dass diese nicht beeinflusst wird durch Veränderungen der Signalamplitude, durch Drifteffekte sowie Rauscheffekte.
Das neue Forschungsvorhaben im CiS Forschungsinstitut legt den Fokus auf die Entwicklung technologischer Komplexe zur Herstellung von Resonatorstrukturen für resonante Sensoren auf Basis polykristallinen Siliziums für den Einsatz als Drucksensor.
Ziel sind hohe Frequenzstabilität, geringe Sensitivität gegenüber statischem Druck und Übertragbarkeit auf andere MEMS wie Beschleunigungssensoren mit Benchmark-Performance und hoher Stabilität.
Die beschriebenen Forschungs- und Entwicklungsarbeiten wurden im Forschungsprojekt „Polysilizium basierte Resonante Mikrosensoren“ (PaRiS) durch das Bundesministerium für Wirtschaft und Energie (BMWE) gefördert.
FKZ: 49MF240150
