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Schlagwortarchiv für: PuSch

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Beiträge

Projektstart PuSch – Photostrukturierbarer Schwarzlack gegen Streulicht

9. Januar 2025/in MOEMS

Das Ziel des kürzlich gestarteten Forschungsprojekts PuSch ist die Nutzung strukturierbarer, optisch intransparenter Beschichtungen zur Abdeckung reflektiver Bereiche auf der Chipoberfläche von Photodioden und Arrays. Dadurch wird beim Einsatz im Messgerät Streulicht unterdrückt und der nützliche Anteil des Detektorsignals erhöht. Bei der Technologieentwicklung muss dabei auf die Kompatibilität zu Folgeprozessen und den Betriebsbedingungen besonderes Augenmerk gelegt werden

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https://www.cismst.de/wp-content/uploads/news-2025-01-09-home.jpg 90 120 CiS https://www.cismst.de/wp-content/uploads/logo-trans.png CiS2025-01-09 11:00:012025-01-09 11:00:22Projektstart PuSch – Photostrukturierbarer Schwarzlack gegen Streulicht
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  • Projektstart SOS – Streulichtunterdrückung in optischen Sensorbaugruppen

    29. Oktober 2025
  • Vier Posterbeiträge auf dem MikroSystemTechnik Kongress 2025

    27. Oktober 2025
  • CiS MOEMS Workshop: Key Technologies for Photonic Quantum Systems

    23. Oktober 2025
  • Projektstart für Aufbau Si-Druckwandler mit glaskeramischen Komponenten (ADAM)

    15. Oktober 2025
  • Projektabschluss Brechzahlsensor – Verfahren zur Inhaltsanalyse und Qualitätsüberwachung verschiedener flüssiger Medien

    9. Oktober 2025

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