Im Forschungsvorhaben SiDMeses konnte die Langzeitstabilität hybrid aufgebauter Silizium-Dehnungssensoren durch einen gezielten und beschleunigten Abbau der mechanischen Montagespannung signifikant verbessert und ein präziser extrem paralleler und symmetrischer Aufbau erzeugt werden
Das neue Forschungsvorhaben NivLer am CiS Forschungsinstitut adressiert die Entwicklung eines Nachrüstsatzes zur nichtinvasiven Druckmessung in Prozessrohren, um zerstörungsfrei verschiedene Zustandsgrößen erfassen und digitalisieren zu können
Neuartige Materialkombinationen und Sensorgeometrien für Widerstandsthermometer in der Wasserstoffwirtschaft – Im neuen Projekt Cryo-Resistance wird sowohl die Weiterentwicklung von industriell gefertigten Widerstandsthermometern in Zusammenarbeit mit der UST Umweltsensortechnik GmbH als auch mehrere Layout-Varianten, basierend auf Halbleitertechnologien des CiS Forschungsinstitutes verfolgt
„Mikrotechnologien für eine smarte Welt“ unter diesem Slogan steht in diesem Jahr der IVAM Hightech Summit in Bochum am 3. und 4. Mai 2023. Prof. Thomas Ortlepp wird die Session “Smart Mobility“ moderieren und mit dem Vortrag “MEMS Development for Smart Mobility – Driver Condition Monitoring for Safety” die Diskussion eröffnen
Im Projekt freezing-out wurden quantenmechanische Rechnungen und umfangreiche Messungen an Halbleitern im Temperaturbereich von 300K bis 4K durchgeführt. Dies diente dazu, zukünftige Simulationen im MEMS-Bereich und der Halbleiterindustrie in diesem Temperaturbereich auf eine bessere Datenbasis zu stellen und zuverlässiger zu machen
Auf dem Fachforum GREAT H2 in der Arena Erfurt am 16.11.2022 stellt Dr. Thomas Frank, Fachbereichsleiter MEMS am CiS Forschungsinstitut, ein H2-Semicron®-Gassensorsystem zur Messung von Wasserstoffkonzentrationen in Anlagen wie Elektrolyseuren und Speichersystemen vor. Das Sensorsystem ist eine gemeinsame Entwicklung mit der UST Umweltsensortechnik GmbH
Das neue F&E-Projekt miniOffset konzentriert auf die Entwicklung einer siliziumbasierten piezoresistiven Technologieplattform mit minimalen Brückengrundverstimmung. Basis bilden CMOS/MEMS-kompatible Materialien verknüpft mit kostengünstigen Herstellungsprozessen
In der 2. Auflage des CiS Workshops am 13. Oktober 2022 tauschten sich Experten aus Wirtschaft und Wissenschaft zu aktuellen Entwicklungstrends bei piezoresistiven Silizium-Drucksensoren aus. Verpassen Sie auch nicht den nächsten CiS Workshop am 9. November zu NDIR Sensoren und Komponenten
Im Mittelpunkt des neuen Forschungsvorhabens steht die Entwicklung einer Technologie für Sensoren mit frontbündigem Medienanschluss und strikter Trennung zur elektrischen Seite für Anwendungen im Hochdruckbereich bis 300 MPa
Eine deutliche Reduktion der Kalibrierkosten wird mittels eines optimierten Layouts einer Messbrücke mit piezoresistiven Messwiderständen und Nutzung des Längseffektes im Projekt „Drucksensor aus <110> Silizium mit erhöhter Linearität“ erzielt
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